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課堂 | 電池組件的橫截面離子束研磨(鋰電池與鉛酸電池柵板)

更新時間:2023-12-09      點擊次數:329

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鋰電池組件分步制備方案——包括機械預處理和離子束拋光,并使用徠卡顯微系統 EM TXP 和 EM TIC 3X進行高質量掃描電(dian)鏡分(fen)析。


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深入了解鋰電池系統需要高質量的表面處理,以評估其內部結構和形態。然而,快速簡單地制備原始橫截面可能由于所涉及材料的性質和電池結構而變得困難。多數材料系統通常使用切割、包埋、研磨、拋光等純機械方法制備橫截面。在這種情況下,單純的機械制備不足以對電池進行高分辨率的SEM分析。具體而言,電池正極的脆性材料在切割時可能會過度碎裂,而較軟的材料(例如鋰)在拋光時可能會涂抹掉多孔結構和膜結構,導致樣品結構模糊、孔隙被覆蓋并出現空隙。在這里,我們詳細討論了用于SEM分析的鋰離子電池制備步驟,以及如何通過寬離子束研磨消除機械制備中的偽影


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寬離(li)子束(shu)研磨利用離(li)子化氬(ya)氣轟(hong)擊樣(yang)(yang)品,并(bing)從(cong)樣(yang)(yang)品中(zhong)物理濺射原子。在橫截(jie)面(mian)中(zhong)進行(xing)切(qie)割(也稱(cheng)為斜面(mian)切(qie)割)時,如(ru)這(zhe)里所示,碳化鎢(wu)掩模位(wei)于(yu)離(li)子束(shu)和樣(yang)(yang)品之(zhi)間,用于(yu)定義橫截(jie)面(mian)的(de)位(wei)置,并(bing)保護樣(yang)(yang)品的(de)前(qian)表面(mian)。如(ru)果操作得當,無論(lun)樣(yang)(yang)品材料的(de)性質(zhi)或成(cheng)分(fen)如(ru)何(he),斜面(mian)切(qie)割過程都會產生原始橫截(jie)面(mian)。


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在本應用注意事項中,機械制備和寬離子束研磨相結合,用于制備電池系統的兩個組件——鋰鎳錳鈷氧化物/鋁(Li-NMC/Al)電極和鉛(Pb)板柵。對于兩種樣品,機械制備和離子研磨遵循相似的方案。使用徠卡顯微系統EM TXP靶表面處理系統進行機械制備,這是一種高精度的臺式設備,可用于鋸、磨、拋光和碾磨樣品,并可進行原位樣品觀察。在徠卡EM TIC3X寬離子束研(yan)磨系統上(shang)進(jin)行離子研(yan)磨,以(yi)獲(huo)得最終的原始橫截面。


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圖(tu)1:EM TXP機(ji)械制(zhi)備系統(tong)(左)和EM TIC3X寬離子(zi)束(shu)研磨機(ji)(右)。



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Li-MNC極(ji)片(pian)材料和鉛柵(zha)板這兩個樣本都使用雙組分環氧(yang)樹脂(zhi)安裝在(zai)載(zai)玻片(pian)之間,然后固(gu)定(ding)在徠卡TIC3X樣品架上,再(zai)使用TXP制備。將樣(yang)品(pin)固定在(zai)載(zai)玻(bo)片之間(jian)為樣(yang)品(pin)提供(gong)了額外支(zhi)撐(cheng),也不必將樣(yang)品(pin)包埋在(zai)環氧樹脂等其他(ta)固定材料(liao)中。這也減少了需要削洗和拋光的表面(mian)積(ji),并使樣(yang)品(pin)在(zai)整個工作流程中都安裝在(zai)單個樣(yang)品(pin)托上。


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然后將(jiang)(jiang)樣品安(an)裝在(zai)TXP夾頭(tou)上(shang),并使用金剛(gang)石研(yan)磨(mo)箔在(zai)TXP上(shang)研(yan)磨(mo)至9微米光潔度(du)。然后將(jiang)(jiang)樣品傾斜(xie)至60°角,并使用400粒(li)度(du)的碳化硅砂紙在(zai)正(zheng)面(mian)載玻片(pian)上(shang)磨(mo)出斜(xie)面(mian)。這從橫截面(mian)表(biao)面(mian)移除了多余的玻璃,減少了離(li)子研(yan)磨(mo)器工(gong)作量,因此加快了離(li)子研(yan)磨(mo)過程(cheng)并增加了產量。制(zhi)備時間大約20分鐘(zhong)。


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然(ran)后將樣(yang)品托直接安(an)裝在(zai)TIC3X適配器(qi)上,用(yong)于室溫下斜面切割標(biao)準階段中的(de)離子研(yan)磨(mo)。每個樣(yang)品在(zai)8 kV下研(yan)磨(mo)。Li-MNC電極的(de)研(yan)磨(mo)時間是3小(xiao)時,鉛柵板是6小(xiao)時。樣(yang)品尺寸不同導致研(yan)磨(mo)時間有差異。


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圖1和2展示了(le)Li-MNC電極(ji)樣品的SEM圖像。圖1顯(xian)(xian)(xian)示了(le)該(gai)樣品(pin)完整的層(ceng)級堆(dui)疊,包括用(yong)于(yu)安裝樣品(pin)的兩片玻璃和(he)電極(ji)的氧化物/金屬(shu)夾層(ceng)結(jie)構(gou)。圖2顯(xian)(xian)(xian)示了(le)感興(xing)趣的樣品(pin)材料更高倍數的放大圖像(xiang)(xiang)。這(zhe)些(xie)(xie)(xie)圖像(xiang)(xiang)中(zhong)樣品(pin)光滑無缺(que)的表(biao)面(mian)體(ti)現出(chu)(chu)制備(bei)品(pin)質(zhi)。這(zhe)些(xie)(xie)(xie)結(jie)果(guo)可(ke)用(yong)于(yu)確定電極(ji)材料中(zhong)的顆粒尺寸(cun)和(he)分(fen)布。此外,可(ke)以對整個電極(ji)樣品(pin)以及各層(ceng)進行精確的厚度測定。同樣令人感興(xing)趣的是結(jie)構(gou)中(zhong)央(yang)位于(yu)多孔膜和(he)金屬(shu)膜之(zhi)間的界面(mian)。這(zhe)些(xie)(xie)(xie)圖像(xiang)(xiang)顯(xian)(xian)(xian)示了(le)金屬(shu)膜如何與多孔層(ceng)的紋理保持一致(用(yong)紅色(se)箭頭表(biao)示),如果(guo)結(jie)構(gou)中(zhong)存在分(fen)層(ceng),也(ye)可(ke)以從這(zhe)些(xie)(xie)(xie)圖像(xiang)(xiang)中(zhong)看出(chu)(chu)。


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圖2:Li-NMC電(dian)極完整樣品(pin)的SEM圖像(xiang)展示了位于(yu)結構中央的兩(liang)個(ge)多孔層(ceng)和金(jin)屬膜(mo)。

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 圖3:Li-MNC電極結構更高放大倍數的(de)SEM圖像。



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圖(tu)3顯示了(le)鉛(qian)柵(zha)板樣品的SEM圖(tu)像。從(cong)這(zhe)些(xie)圖像(xiang)中可(ke)以觀察到(dao)(dao)高(gao)質量的(de)橫截面(mian)。樣(yang)(yang)品(pin)(pin)表(biao)面(mian)處(chu)(chu)于原(yuan)始狀(zhuang)態(tai),鉛柵(zha)板的(de)顆粒(li)(li)結(jie)構清(qing)晰可(ke)見,沒(mei)有(you)任(ren)何(he)額(e)外的(de)蝕刻。從(cong)這(zhe)個(ge)樣(yang)(yang)品(pin)(pin)中,可(ke)以分析(xi)粒(li)(li)度和定位(wei),雖然沒(mei)有(you)在(zai)該樣(yang)(yang)品(pin)(pin)上拍(pai)攝到(dao)(dao),但(dan)是這(zhe)種處(chu)(chu)理(li)質量通常(chang)適(shi)合于電(dian)子(zi)背散射(she)衍射(she)(EBSD)分析(xi)。在(zai)這(zhe)些(xie)圖像(xiang)中,我們可(ke)以清(qing)楚地看到(dao)(dao)粒(li)(li)度變化很(hen)大(da)的(de)區域——有(you)些(xie)區域的(de)晶(jing)粒(li)(li)相當粗,有(you)些(xie)區域的(de)晶(jing)粒(li)(li)結(jie)構非常(chang)細。晶(jing)界也很(hen)容易(yi)看到(dao)(dao)。


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圖4:鉛(qian)柵板樣品的低倍放大(da)(左)和高倍放大(da)(右)SEM圖像(xiang)。

樣(yang)品由東賓夕法尼(ni)亞制(zhi)造公司提(ti)供(gong)。樣(yang)本制(zhi)備和圖像由JH技(ji)術公司的Jerome Pons提(ti)供(gong)。


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